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納米激光光刻系統(tǒng)是專(zhuān)門(mén)為科研團(tuán)隊(duì)和加工平臺(tái)設(shè)計(jì)的小范圍多功能光刻系統(tǒng)，根據(jù)壓電平臺(tái)的移動(dòng)范圍，分為P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型號(hào)，具有結(jié)構(gòu)緊湊、操作方便、維護(hù)簡(jiǎn)單、加工分辨率高、支持多種受體材料等特征，能廣泛適用于各種微納結(jié)構(gòu)及器件制造、材料工藝探素和小規(guī)模生產(chǎn)。該系列產(chǎn)品還可根據(jù)用戶特殊需求，提供定制設(shè)計(jì)和制造。

激光直寫(xiě)技術(shù)采用全新的技術(shù)路徑提高加工分辨率，一舉突破突衍射極限的限制，成功實(shí)現(xiàn)納米尺度加工；突破了目前激光直寫(xiě)僅能用于有機(jī)光刻膠的現(xiàn)狀，可以廣泛應(yīng)用于各種受體材料，極大地?cái)U(kuò)展了激光直寫(xiě)設(shè)備的應(yīng)用范圍。

納米激光直寫(xiě)是一款大面積、高精度、可套刻、超衍射極限加工的激光直寫(xiě)系統(tǒng)，可用于晶圓尺寸的大面積微納加工，適用于各種微納結(jié)構(gòu)和器件制造、小批量微納器件生產(chǎn)等。該系列包括L50、L100等不同型號(hào)，具有功能強(qiáng)大、維護(hù)簡(jiǎn)單、加工分辨率高、支持多種刻寫(xiě)模式、支持多種受體材料等特征。本系統(tǒng)在設(shè)計(jì)之初保留了充足的物理空間和硬件資源，以滿足后續(xù)功能升級(jí)換代的需求，使產(chǎn)品具有更長(zhǎng)的生命周期